氣相技術 | 株式会社Creative coatings

GAS PHASE气相技术

气相技术

Gas Phase

在真空或大气压环境之下皆可推荐最佳的解决方案!

不论是有机或无机物(金属,化合物,氧化物,氮化物等)都可以镀膜!可以形成膜厚1nm~10μm的高质量及高致密性的镀膜!

Previous Cases技术加工范例

由客户评估中的工件材质,膜种和膜厚等讯息,敝司可以推荐最佳加工案例的提案。敝司Creative Coatings的气相技术,被活用在多种的领域里面,譬如【新素材/新材料】,【能源】相关的树脂原料或燃料电池;【医疗/保健】相关的医疗器具和机器;【行动设备】,【可穿戴设备】,【车用装备】相关的电子部件和新型显示器等等。符合客户期望和解决问题所需要的技术都集约在这里。

对象材料

有机物

客户的要求

"我想在树脂上镀膜"

对于不耐高温的材料可以在低温环境下镀膜

无机物

客户的要求

"我想在玻璃,陶瓷或金属上镀膜"

可形成均匀且密着性良好的镀膜

树脂容器

客户的要求

"我想在树脂容器上加上装饰"

可依照所希望的色调和触感进行镀膜

薄膜,玻璃

客户的要求

"我想在薄膜或玻璃加上各种机能"

可赋予各种机能,譬如抗紫外线和绝缘性等等

粉体

客户的要求

"我想在粉体上镀膜"

可通过在各种粒径的粉体上镀膜以达降低成本或是机能向上

膜种

金属膜

客户的要求

"我想要镀上金属膜"

高纯度的金属材料也可以形成密着性良好的镀膜而且维持高纯度。

合金薄膜

客户的要求

"我想要镀上合金薄膜"

可依照希望的成分组成和结晶形态来形成镀膜

氧化膜

客户的要求

"我想要镀上氧化物膜"

多种类的氧化物镀膜,可制成反射,遮光或是透明电极等等

膜厚

为1nm(纳米)

客户的要求

"我想要镀上纳米级的薄膜"

可形成致密均匀并且均质的超薄镀膜

超细粒子

客户的要求

"我想要在10纳米以下粒子上镀膜"

10纳米粉体也可形成致密均匀并且均质的超薄镀膜

〜1000nm的

客户的要求

"我想要镀100~1000纳米的薄膜"

可依照希望的膜厚来形成镀膜

Technology system技术方式

DEPOSITION

气相沉积法

主题目录
PDF

CVD

CVD方式

ALD

ALD方式

主题目录
PDF

SPUTTERING

溅射方式

DLC

DLC方式

Coating apparatus涂布设备

可依照客户希望,推荐最佳的技术和镀膜方式以提供高质量的镀膜层

ALD装置/
CMVA系列

即使在被认为ALD也难以办到的低温环境下也可以达到高质量的成膜!

对象目录
PDF

桶型ALD装置/
CMVB系列

ALD装置和桶型机构的融合

主题目录
PDF

气泡型CVD装置/
CMB系列

液体→气体
  • 在低温下也可以达成低成本和高质量的镀膜
  • 可对应于几乎所有的金属氧化物膜
镀膜规格
  • 镀膜形成温度<300℃
  • 镀膜速率> 100nm/分
应用实例
  • 保护膜,绝缘膜,光学膜

高频激励DLC低温沉积系统 / CMVC系列

通过CMVC膜形成例委托

传统的DLC膜形成需要500℃或更高的高温,但是该设备可以有效地使用高频功率和DC高压以在150℃或更低的低温下形成具有良好粘附性的DLC膜。

Unit单位

电浆源

供给所选择的离子,自由基

纳米气泡发生盘

清洗效果 不需要特别的药品即可对应复杂的形状或是微细的形状
消毒,净化效果 高浓度氧气源极/臭氧源
分离,分散效果 通过均匀微细粒径均匀地分散

Deposition Contract受托镀膜服务

多种的工法来对应客户需求
[干式]真空蒸镀机,溅射,CVD
[湿式]喷涂机,成形机,DIP

ALD处理的委托镀膜例

镀膜规格

工件:300mm芯片,各种金属零件,各种树脂零件・薄膜,各种粉体
尺寸:400×400×400 mm内

自适应膜

SiO2、Al2O3、TiO2、ZnO、ZrO、Nb3O5

膜厚

3~100 nm