气相技术

用各种工法、膜厚、薄种来实现1nm~1000nm的成膜加工

蒸镀方法

蒸镀方法

CVD法

CVD法

ALD法

ALD法

溅镀方法

溅镀方法

为您提供想要的、最合适的技术、镀膜法及高质量膜

ALD机器人
CMVA series

在公认ALD有相当难度的室温下,也能够达到高质量的成膜加工!

桶型ALD机器人
CMVB series

融合ALD装置及桶型溅镀装置

发泡CVD机器人
CMB series

■液体→气体
・以低温下来完成低成本&高质量的成膜加工
・可对应大部分的金属氧化膜
■成膜规格
・成膜温度<300℃
・成膜速度>100nm/min
■应用示例
・保护膜、绝缘膜、光学膜

IBAD(离子辅助蒸镀法)
CMVI series

■IBAD受托成膜例子
・加上以往真空蒸镀法技术并配合离子注入法,将两公司的优点融合,达到相乘効果的复合技术。
・室温下可进行低能源照射,藉此提高触控面板的透明导电膜(ZnO)及高融点金属电极形成的密度性。

成膜受托服务

可对应各种多样工法

【干】真空镀膜机·、溅镀、CVD
【湿】喷雾、·涂布机·、浸渍

膜厚100nm以下

■以ALD的受托成膜例子

【成膜规格】
工作机械:晶圆、金属(SUS、铝、铜等)、树脂、薄膜等
尺寸:只要一边为100mm,形状皆可

【适应膜】
SiO2、Al2O3、TiO2、HfO等

应用例子
aldアプリケーション例aldアプリケーション例

膜厚100~1000nm

■以IBAD的受托成膜例子

【成膜规格】
工作尺寸:φ100~300mm(不定形状、圆筒也可)
形成层:可单层、多层膜(最大4层)
蒸镀模式:对应蒸镀罩(选择项目)

【适应膜】
高融点金属、铬,硅,铝,铜,SiO2,SiN,ZnO…等

应用例子
ibad应用例子

除了介绍内容外,也可以依照客户的希望,来提供各种其他服务,请随时与我们联络。
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